特許
J-GLOBAL ID：200903045245759842
露光用マスク及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-056193
公開番号（公開出願番号）：特開平6-266092
出願日： 1993年03月16日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】本発明は、基板外周の遮光膜に隣接する開口パターンと離れて位置する開口パターンでエッチング速度に差異を生じせしめることがなく、露光性能が等価となるような露光用マスクを提供することを目的とする。【構成】透明絶縁基板上に金属あるいは金属酸化物あるいは誘電体膜よりなる遮光膜パターンと前記透明基板を透過する光に対して位相をシフトさせるシフタパターンとを具備し、前記遮光膜パターンがウェハ上に転写される露光エリアとそれを取り囲むように配置され遮光膜を除去した開口溝とを含むことを特徴とする露光用マスク。
請求項（抜粋）：
透明絶縁基板上に金属あるいは金属酸化物あるいは誘電体膜よりなる遮光膜パターンと前記透明基板を透過する光に対して位相をシフトさせるシフトパターンとを具備し、前記遮光膜パターンがウェハ上に転写される露光エリアとそれを取り囲むように配置され遮光膜を除去した開口溝とを含むことを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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