特許
J-GLOBAL ID：200903045246254930
薄膜の製造方法及び製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-047610
公開番号（公開出願番号）：特開平5-221788
出願日： 1992年02月04日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：
【要約】【目的】 薄膜、特に原子レベルの点状若しくは線状の薄膜の製造方法及び製造装置を提供する。【構成】 反応ガス雰囲気中に、基板と光ヘッド及び走査型トンネル顕微鏡(STM)のヘッドを、基板上にSTMによりトンネル電流を流すと共に、光ヘッドによりレーザ光を集束するように配置し、基板上に照射するレーザ光及びトンネル電流により発生する両者のエネルギーによって反応性ガスを分解し、該基板上に薄膜を形成する薄膜の製造方法。レーザ光源、該レーザ光源からのレーザ光を変調する変調素子、STM、その制御部、レーザ光を導入する窓を有する真空容器、反応性の原料ガス供給装置、及び真空容器内に設けた基板、光ヘッド及びSTMのヘッドを備えている薄膜の製造装置。
請求項（抜粋）：
反応ガス雰囲気中に、基板と光ヘッド及び走査型トンネル顕微鏡のヘッドを、基板上に走査型トンネル顕微鏡によりトンネル電流を流すと共に、光ヘッドによりレーザ光を集束するように配置し、基板上に照射するレーザ光及びトンネル電流により発生する両者のエネルギーによって反応性ガスを分解し、該基板上に薄膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。
IPC (3件)：
C30B 25/02
, C30B 25/04
, C30B 30/00
