レンズディストーションの測定方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-164256
公開番号（公開出願番号）：特開平9-015098
出願日： 1995年06月29日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】縮小投影露光装置において、異なる光学条件間におけるレンズディストーション差の測定を、効率よく且つ正確に行うことができるようにする。【構成】始めに、レチクルブラインド37を最大露光領域45全体に拡大し(ステップ11)、基準の第1の光学条件を設定する(ステップ12)。次いで、ウェハ41の最大露光領域45に対し、ウェハステージ42を移動させて繰返して露光する(ステップ13)。次に、全ての光学条件について、ウェハ41の露光が終了したか否かを判定し(ステップ14)、露光が終了していない場合には、光学条件を変更して(ステップ15)、ウェハステージ42を移動させ、ウェハ41の露光領域全体を繰返して露光し(ステップ16)、全ての光学条件に対応する露光が終了した場合には、ウェハ41を現像して(ステップ17)、各光学条件間のレンズディストーション差を測定する(ステップ18)。

請求項（抜粋）：

縮小投影露光装置を用いて複数の光学条件下において半導体基板を露光処理し、前記複数の光学条件間のレンズディストーション差を測定するレンズディストーションの測定方法において、レンズディストーション測定対象の1つの半導体基板に対して、複数の異なる光学条件において逐次露光処理を行い、当該露光処理を介して現像された半導体基板を生成する第1の測定ステップと、前記第1の測定ステップにおいて現像された半導体基板を用いて、前記複数の異なる光学条件における前記半導体基板に対応するレンズディストーションを測定し、これらの各光学条件におけるレンズディストーション測定値を直接比較照合することにより、当該複数の光学条件間のレンズディストーション差を求める第2の測定ステップと、を有することを特徴とするレンズディストーションの測定方法。

IPC (3件)：

G01M 11/02 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (4件)：

G01M 11/02 B , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 516 A

前のページに戻る