帯電防止膜を有する支持体、その製造方法、材料、及び用途

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢口平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-199966
公開番号（公開出願番号）：特開平9-048921
出願日： 1995年08月04日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【課題】画像形成装置の部品等に用いられる支持体の表面抵抗値を半導体領域の特定の範囲に制御する。【解決手段】 π電子共役系導電性高分子及び樹脂成分を含むことを特徴とする帯電防止膜を形成する。

請求項（抜粋）：

π電子共役系導電性高分子、樹脂成分及び溶剤を含むことを特徴とする帯電防止膜形成用組成物。

IPC (5件)：

C08L101/12 LSY , C08G 61/12 , C08L 65/00 LNY , C09D201/00 PDC , G03G 15/20 103

FI (5件)：

C08L101/12 LSY , C08G 61/12 , C08L 65/00 LNY , C09D201/00 PDC , G03G 15/20 103

引用特許：

審査官引用 (2件)

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