特許
J-GLOBAL ID:200903045287683790

磁気抵抗効果多層膜およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-337371
公開番号(公開出願番号):特開平9-092905
出願日: 1995年12月25日
公開日(公表日): 1997年04月04日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、従来構造ではできなかった磁性膜の磁化方向が交互に略直交するように磁気異方性が調整された多層膜構造を実現できる積層構造にすることにより、直線性が良好かつ高いMR比を得ることができると同時に、積層構造の各磁性膜の磁化の向きを設計どうりに確実に所定の方向に配向させることができる磁気抵抗効果多層膜とその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、磁歪を有する軟磁性膜31、31’と非磁性膜32が交互に少なくとも2層以上積層された磁気抵抗効果多層膜であって、非磁性膜32を挟んで上下に隣接する前記軟磁性膜31、31’にそれぞれ一軸性の圧縮応力か引張応力が、層毎に交互に印加されてなるものである。
請求項(抜粋):
磁歪を有する軟磁性膜と非磁性膜が交互に少なくとも2層以上積層された磁気抵抗効果多層膜であって、非磁性膜を挟んで上下に隣接する前記軟磁性膜にそれぞれ一軸性の圧縮応力か、引張応力が、層毎に交互に印加されてなることを特徴とする磁気抵抗効果多層膜。

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