特許
J-GLOBAL ID:200903045295483155

汚水処理方法及びシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-327238
公開番号(公開出願番号):特開平11-267672
出願日: 1998年11月17日
公開日(公表日): 1999年10月05日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】簡単な構造で汚水を迅速に処理でき、汚水処理のコストを下げる。【解決手段】汚水を霧状にするステップ1と、霧状にした汚水に10L/min以上の流速を持たせ、この汚水を磁場の強度が3000ガウス以上である中空柱状の密封磁場構造を有するイオン分離器を通過させながら、汚水と、オゾン濃度が35,000〜100,000ppmの範囲にあるオゾンとを、混合圧力が1〜4kg/cm2 であってオゾンの混合濃度が2.5ppm以上であるように混ぜ合わせ、汚水とオゾンとを酸化還元反応をさせ、水、気体及びその他の物質を含んだ混合液を生成するステップ2と、混合液を高圧反応槽に送り込み、反応時間を3.5分以上にし圧力を2〜12kg/ cm2にし、気体を高圧反応槽の上部排気口から取水源に戻し、浄水を浄水排水口から放出し、水の比重より大きい物質等を下部の排汚水口から放出するステップ3と、を備える。
請求項(抜粋):
汚水を取出し霧状にするステップ1と、霧状にした汚水に10L/min以上の流速を持たせ、この汚水を磁場の強度が3000ガウス以上である中空柱状の密封磁場構造を有するイオン分離器へ送り前記イオン分離器の内部を通過させながら、この汚水と、オゾン発生装置によってオゾン濃度が35,000〜100,000ppmの範囲にあるように発生させたオゾンとを、混合圧力が1〜4kg/cm2 であってオゾンの混合濃度が少なくとも2.5ppm以上であるように混ぜ合わせ、前記汚水と前記オゾンとを酸化還元反応をさせ、水、気体及びその他の物質を含んだ混合液を生成するステップ2と、前記混合液を高圧反応槽に送り込み、前記高圧反応槽での反応時間を3.5分以上にし圧力を2〜12kg/ cm2にし、前記混合液中の各物質の比重の違いを利用して、気体を前記高圧反応槽の上部排気口から取水源に戻し、浄水を浄水排水口から放出し、その他の水の比重より大きい物質等を下部の排汚水口から放出するステップ3と、を備えることを特徴とする汚水処理方法。
IPC (2件):
C02F 1/78 ,  C02F 1/48
FI (2件):
C02F 1/78 ,  C02F 1/48 A

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