特許
J-GLOBAL ID：200903045304497377
ポジ型レジスト組成物
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-223634
公開番号（公開出願番号）：特開平6-202321
出願日： 1993年09月08日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：
【要約】【目的】 解像度、プロファイル及び焦点深度等の諸性能に優れ、且つ現像残さのないポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 (a) メタクレゾール、パラクレゾール及び2,5-キシレノールを含むフェノール類の混合物とアルデヒド類とを縮合させて得られるノボラック樹脂、(b) 高速液体クロマトグラフィーにより測定したパターン面積で、フェノール性水酸基を少なくとも3個以上有する化合物のキノンジアジドスルホン酸ジエステルを40%以上含むキノンジアジド系感光剤、並びに(c) 分子量900 未満のアルカリ可溶性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(a) メタクレゾール、パラクレゾール及び2,5-キシレノールを含むフェノール類の混合物とアルデヒド類とを縮合させて得られるノボラック樹脂、(b) 高速液体クロマトグラフィーにより測定したパターン面積で、フェノール性水酸基を少なくとも3個以上有する化合物のキノンジアジドスルホン酸ジエステルを40%以上含むキノンジアジド系感光剤、並びに(c) 分子量900 未満のアルカリ可溶性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/023 511
, G03F 7/022
, H01L 21/027
