特許
J-GLOBAL ID：200903045318091896
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-137218
公開番号（公開出願番号）：特開平10-323606
出願日： 1997年05月27日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】 基板の温度変動を補正することにより基板に均一な処理を行うことが可能な基板処理装置を提供することである。【解決手段】 回転保持部1は円板状部材6および環状の吸引保持部7からなる。回転保持部1はモータ3の回転軸2の先端に取り付けられ、水平姿勢で回転駆動される。円板状部材6の下方に温調用ノズル16が半径方向に移動可能に配設されている。温調用ノズル16には温調用流体供給源18から温調器19を介して温調用流体が供給される。温調ノズル16から円板状部材6の裏面に温調用流体が吐出される。
請求項（抜粋）：
基板を回転させながら前記基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、水平姿勢で回転駆動される円板状部材と、前記円板状部材上に設けられ、前記基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、前記円板状部材の裏面に温度調整用流体を吐出する吐出手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
B05C 11/08
, H01L 21/30 502 H
, H01L 21/30 564 C
