特許

J-GLOBAL ID：200903045325312393

基板処理装置

発明者： 上山 勉
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-049443
公開番号（公開出願番号）：特開平10-247678
出願日： 1997年03月04日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：

【要約】【課題】 処理前の基板と処理済の基板の搬送経路が隔離された基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板の搬送室30を中心に3つの基板処理ユニットと基板の搬入室および搬出室とを近接配置する。基板の搬入室と搬出室とは互いに独立に形成され、処理前の基板を開口部を通して搬送室30に搬入し、処理済の基板を開口部を通して受け取り、外部へ搬出する。搬送室30の内部には、互いに隔離された基板収納室40a,40bが配置され、基板収納室40aが処理前の基板を収納して処理室11に搬入し、基板収納室40bが処理済の基板を処理室11から受け取り、搬出室に引き渡す。

請求項（抜粋）：

基板を搬送する基板搬送ユニットと、前記基板搬送ユニットの周囲に配置された処理室を有する複数の基板処理ユニットと、外部との間で基板の受渡しを行う受け渡し部とを備え、前記基板搬送ユニットは、前記受け渡し部から受け取った基板を保持して搬送し、前記複数の基板処理ユニットの処理室のいずれかに搬入する第1の基板保持部と、前記第1の基板保持部を取り囲む第1の基板収納室と、前記複数の基板処理ユニットの処理室のいずれかから搬出した基板を保持して搬送し、前記受け渡し部に渡す第2の基板保持部と、前記第2の基板保持部を取り囲む第2の基板収納室とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/02

FI (5件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/30 561

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-343898   出願人：大日本スクリーン製造株式会社