特許

J-GLOBAL ID：200903045347428506

ウェハートレーと真空装置、及び熱電性ウェハーの真空処理方法

発明者： 田口 洋治 ,  浜崎 泰至 ,  永谷 浩治
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-173015
公開番号（公開出願番号）：特開平10-001772
出願日： 1996年06月12日
公開日（公表日）： 1998年01月06日
要約：

【要約】【課題】 熱電性のウェハーが真空処理によって高温になっても帯電しないウェハートレーを提供する。【解決手段】 電気絶縁性の耐熱板4表面に導電性薄膜61を形成してウェハートレー2を構成する。そのウェハートレー2に熱電性ウェハーを配して真空槽内のトレー保持治具上に乗せてウェハー2を真空処理したときに、ウェハーに生じた静電気を導電性薄膜61を介して逃がす。このとき、耐熱板の側面と裏面にも導電膜62、63を形成しておき、ウェハー2に生じた静電気を裏面の導電膜63と接触しているウェハー保持治具から逃がすとよい。

請求項（抜粋）：

電気絶縁性の耐熱板を有し、真空槽内に配置できるように構成されたウェハートレーであって、前記耐熱板表面のうちの少なくともウェハーが配される面には導電性膜が形成され、 前記ウェハーに生じた静電気を、前記導電膜を介して逃がせるように構成されたことを特徴とするウェハートレー。

IPC (3件)：

C23C 14/50 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/46

FI (3件)：

C23C 14/50 D ,  C23C 16/44 J ,  C23C 16/46

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平4-196459
  
• 特開平3-090569
  
• 特公平6-096116
  

審査官引用 (3件)

• 特開平4-196459
  
• 特開平3-090569
  
• 特公平6-096116