特許

J-GLOBAL ID：200903045358950646

有機EL表示装置の製造装置およびそれを用いた有機EL表示装置の製造方法

発明者： 酒井 俊男 ,  栄田 暢 ,  東海林 弘
出願人/特許権者： 出光興産株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 喜平
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001001893
公開番号（公開出願番号）：WO2001-072091
出願日： 2001年03月12日
公開日（公表日）： 2001年09月27日
要約：

【要約】高温環境下においても長時間にわたってダークスポットの発生を抑制することができる有機EL表示装置が得られる製造装置および製造方法を提供する。そのため、有機EL表示装置の製造装置において、支持基板を搬入するための第1のユニットと、有機発光媒体の形成前に少なくとも支持基板を加熱して脱水処理を行うための第2のユニットと、有機発光媒体および上部電極を形成するための第3のユニットと、封止用部材により周囲を封止するための第4のユニットと、を備え、第2のユニットと第3のユニットとの間に、第1のユニットを設け、かつ、当該第1のユニットに第1の搬送装置を設けるとともに、第3のユニットと第4のユニットとの間に、第2の搬送装置を設ける。

請求項（抜粋）：

支持基板上に、少なくとも下部電極と、有機発光媒体と、上部電極とを有するとともに、周囲が封止用部材により封止された有機EL表示装置を製造するための製造装置において、 前記支持基板を搬入するための第1のユニットと、 前記有機発光媒体の形成前に少なくとも支持基板を加熱して脱水処理を行うための第2のユニットと、 前記有機発光媒体および上部電極を形成するための第3のユニットと、 前記封止用部材により周囲を封止するための第4のユニットと、を備えるとともに、 各ユニットの間に搬送装置が設けてあること、 を特徴とする有機EL表示装置の製造装置。

IPC (5件)：

H05B 33/10 ,  G09F 9/00 338 ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22

FI (7件)：

H05B 33/10 ,  G09F 9/00 338 ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 B ,  H05B 33/22 D ,  H05B 33/22 Z