特許

J-GLOBAL ID：200903045359759966

ネガ型感放射線レジスト組成物

発明者： 大森 克実 ,  井口 悦子 ,  山崎 晃義 ,  佐藤 充 ,  小林 政一
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-169240
公開番号（公開出願番号）：特開平7-028243
出願日： 1993年07月08日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：

【要約】【構成】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)アルコキシメチル化アミノ樹脂、(C)一般式【化1】【化2】【化3】(R1及びR2は炭素数1〜3のアルキル基、R3はH又は炭素数1〜3のアルキル基、R4、R5及びR6はH又は低級アルキル基、nは0又は1)で表わされるトリアジン化合物の中から選ばれた少なくとも1種、及び(D)アルキル基の炭素数が1〜5のプロピレングリコールモノアルキルエーテルを含有して成るネガ型感放射線レジスト組成物である。【効果】 低毒性であり、レジスト膜の面内均一性に優れるとともに、レジスト膜厚の経時変化が少ない上、解像度、プロファイル形状、感度などのレジスト特性が優れている。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)アルコキシメチル化アミノ樹脂、(C)(イ)一般式【化1】(式中のR1及びR2はそれぞれ炭素数1〜3のアルキル基であり、それらは互いに同一であっても異なっていてもよい)(ロ)一般式【化2】(式中のR3は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基である)及び(ハ)一般式【化3】(式中のR4、R5及びR6はそれぞれ水素原子又は低級アルキル基であり、それらはたがいに同一であっても異なっていてもよく、nは0又は1である)で表わされるトリアジン化合物の中から選ばれた少なくとも1種、及び(D)アルキル基の炭素数が1〜5のプロピレングリコールモノアルキルエーテルを含有して成るネガ型感放射線レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027