特許

J-GLOBAL ID：200903045366472192

電子ビーム露光装置

発明者： 安武 信幸 ,  山田 慶二 ,  馬渕 悟
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
代理人 (1件)： 有我 軍一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-298123
公開番号（公開出願番号）：特開平8-162384
出願日： 1994年12月01日
公開日（公表日）： 1996年06月21日
要約：

【要約】【目的】 僅かなビームサイズの変動及び電流値のノイズの増減を高精度に検出して、パターンサイズずれ等を生じることなく、サブミクロンのパターンを高精度で、かつ高信頼に露光することができる。【構成】 電子ビームを矩形または任意の形状の像に成形する成形偏向器と、基板上に電子ビームを収束投影する投影レンズと、電子ビームを基板上に偏向走査する偏向器とを有し、かつ成形した像を収束投影するとともに、偏向走査して基板上に描画する電子ビーム露光装置において、細長いスリットサイズの電流値を一定時間毎に測定する測定手段と、測定した電流値の変化に基づいて露光状態を判定する判定手段とを有する。

請求項（抜粋）：

電子ビームを矩形または任意の形状の像に成形する成形偏向器と、基板上に電子ビームを収束投影する投影レンズと、電子ビームを基板上に偏向走査する偏向器とを有し、かつ成形した像を収束投影するとともに、偏向走査して基板上に描画する電子ビーム露光装置において、細長いスリットサイズの電流値を一定時間毎に測定する測定手段と、測定した電流値の変化に基づいて露光状態を判定する判定手段とを有することを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504

FI (3件)：

H01L 21/30 541 Q ,  H01L 21/30 541 E ,  H01L 21/30 541 N