特許

J-GLOBAL ID：200903045366859763

X線マスク材料及びそれを用いたX線マスク

発明者： 長澤 弘幸 ,  笑喜 勉 ,  山口 洋一
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 中村 静男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-245090
公開番号（公開出願番号）：特開平6-097052
出願日： 1992年09月14日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：

【要約】【目的】 特定波長の位置検知光に対して高い透過率を有するX線マスク材料の提供を目的とする。【構成】 基板上にX線透過膜を有するX線マスク材料において、前記X線透過膜の膜厚t1 を、t1 =m1 λ/(2n1 )(ただし、n1 はX線透過膜の波長λにおける屈折率、m1 は正の正数、λはアライメント検知光の波長である)に設定したX線マスク材料。

請求項（抜粋）：

基板と、該基板上に設けたX線透過膜を含むX線マスク材料であって、前記X線透過膜の膜厚t1 を、t1 =m1 λ/(2n1 )(ただし、n1 はX線透過膜の波長λにおける屈折率、m1 は正の整数、λはアライメント検知光の波長である)に設定することを特徴とするX線マスク材料。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16