特許

J-GLOBAL ID：200903045374507876

プロキシミティ露光装置

発明者： 加藤 正紀
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-251370
公開番号（公開出願番号）：特開平7-106230
出願日： 1993年10月07日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：

【要約】【目的】 位置合わせのための光学系を移動させる必要がなく、且つスループットが改善されたプロキシミティ露光装置を提供する。【構成】 露光用の光源1からの露光光が、コリメータレンズ15、オプティカル・インテグレータ4、コンデンサーレンズ16、偏角プリズム22A,21A及びダイクロイック膜23Aを経てマスクM上のアライメントマーク6Aを照明する。アライメント系7Aからのアライメント光AL1が、ダイクロイック膜23Aで反射されてアライメントマーク6Aを照明する。アライメントマーク6Aの露光中でもアライメント系7Aによる観察が行われる。

請求項（抜粋）：

照明光学系からの露光光で転写用のパターン及び位置合わせ用のマークが形成されたマスクを照明し、前記マスクに対して近接又は密着して配された感光性の基板上に前記マスクの転写用のパターンを露光するプロキシミティ露光装置において、前記感光性の基板に対して非感光性の位置検出光を発生する送光光学系と、前記マスクの位置合わせ用のマークの上方に且つ前記マスクと前記照明光学系との間に配され、前記露光光を前記マスク側に透過させると共に、前記位置検出光を前記マスク側に反射する波長選択光学系と、前記マスクの位置合わせ用のマークから反射され、前記波長選択光学系を介して戻された前記位置検出光を受光する受光光学系と、を有し、前記露光光で前記マスクの位置合わせ用のマークを前記基板上に転写し、前記位置検出光で前記マスクの位置合わせ用のマークの位置を検出することを特徴とするプロキシミティ露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/14 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 509 ,  H01L 21/30 510