特許

J-GLOBAL ID：200903045385466748

マグネシウム合金の高耐食被膜形成方法

発明者： 星 裕之 ,  山口 英久 ,  岡本 篤志 ,  安藤 節夫
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-325416
公開番号（公開出願番号）：特開2006-161155
出願日： 2005年11月09日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：

【課題】 マグネシウム合金上に亜鉛/銅/ニッケル/アルミニウム4層構造めっき膜を形成した場合、被めっき物の形状が複雑化した際に、ニッケルめっき膜の内部応力により、アルミニウムめっき後に被膜全体の密着性が低下する。【解決手段】 マグネシウム合金上にマグネシウム合金側から順にニッケル/銅/アルミニウムの3層構造を有する被膜をめっき法により形成し、更に表面のアルミニウム層の一部を陽極酸化する。ニッケルめっき膜とアルミニウムめっき膜との間に応力緩和層として銅めっき膜を形成することで、ニッケルめっき膜及びアルミニウムめっき膜に発生する内部応力が緩和されるので、被膜全体の密着性は向上する。

請求項（抜粋）：

マグネシウム合金上にマグネシウム合金側から順にニッケル/銅/アルミニウムの3層構造を有する被膜をめっき法により形成し、更に表面のアルミニウム層の一部を陽極酸化することを特徴とするマグネシウム合金用高耐食被膜形成方法。

IPC (3件)：

C23C 28/00 ,  C25D 5/10 ,  C25D 5/48

FI (3件)：

C23C28/00 B ,  C25D5/10 ,  C25D5/48

Fターム (25件)：

4K024AA01 ,  4K024AA09 ,  4K024AB02 ,  4K024AB03 ,  4K024AB17 ,  4K024BA01 ,  4K024CA01 ,  4K024CA04 ,  4K024CA06 ,  4K024DA10 ,  4K024DB03 ,  4K024GA01 ,  4K024GA02 ,  4K024GA05 ,  4K044AA06 ,  4K044BA06 ,  4K044BA10 ,  4K044BA13 ,  4K044BB05 ,  4K044BC02 ,  4K044BC05 ,  4K044BC09 ,  4K044CA15 ,  4K044CA17 ,  4K044CA18

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許2751530号公報(特許請求の範囲、第1図、第2図)
  

審査官引用 (3件)

• 特開昭50-133126
  
• 特開昭47-042307
  
• 電磁波シールド用金属線
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-009197   出願人：住友金属鉱山株式会社