特許

J-GLOBAL ID：200903045399203430

被処理物の回転保持装置

発明者： 金 子 達 彦 ,  社 浦 肇 ,  布 谷 伸 仁
出願人/特許権者： 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-265566
公開番号（公開出願番号）：特開平9-107023
出願日： 1995年10月13日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：

【要約】【課題】 エッチング、洗浄、乾燥等の処理において処理ムラが生じることがなく、歩留まりの向上を図ることができる被処理物の回転保持装置を提供する。【解決手段】 回転体を回転可能に設け、この回転体に被処理物の外縁を支持可能な複数の挟持爪を有する挟持手段を設ける。複数の挟持爪を挟持位置又は解放位置に移動させる駆動手段を設ける。駆動手段は被処理物の処理中において複数の挟持爪を挟持位置及び解放位置に反復動作させながら常にいずれかの挟持爪によって被処理物を挟持する。

請求項（抜粋）：

回転可能に設けられた回転体と、この回転体に設けられ被処理物の外縁を支持可能な複数の挟持爪を有する挟持手段と、前記複数の挟持爪を挟持位置又は解放位置に移動させる駆動手段とを備え、前記駆動手段は前記被処理物の処理中において前記複数の挟持爪を挟持位置及び解放位置に反復動作させながら常にいずれかの挟持爪によって前記被処理物を挟持するようにしたことを特徴とする被処理物の回転保持装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351 ,  H01L 21/306

FI (6件)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 Z ,  H01L 21/306 J