水素分離膜の水素ガス透過性能の回復及び安定化方法、並びにそれを用いた水素分離装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-069272
公開番号（公開出願番号）：特開平8-257376
出願日： 1995年03月28日
公開日（公表日）： 1996年10月08日
要約：

【要約】【構成】水素分離膜を酸素含有ガス中で加熱処理する水素分離膜の水素ガス透過性能の回復及び安定化方法、及び原料ガスの導入口、分離された水素ガスの導出口及び被処理ガスの導出口を有する容器の内部に水素分離膜を備えた水素分離装置であって、水素分離装置は、酸素含有ガスの導入口、酸素含有ガスの導出口、酸素含有ガスの容器への導入・導出を行うポンプ、及び水素分離装置を加熱する加熱手段を有する機構をさらに備え、水素分離工程の前に、酸素含有ガスの導入口を通じて、ポンプにより、酸素含有ガスを容器内に0.05l/min.・cm2以上で導入しつつ、加熱装置により、容器内を150〜500°Cに2分間以上保持し、その後、ポンプにより、酸素含有ガスを酸素含有ガスの導出口を通じて排出することにより、水素分離膜の水素ガス透過性能を回復及び安定化させる水素分離装置。【効果】繰り返し使用により水素透過性能が低下した水素分離膜を回復させることができる。又、水素分離膜の水素透過性能を安定化させることができる。

請求項（抜粋）：

水素分離膜を酸素含有ガス中で加熱処理することを特徴とする水素分離膜の水素ガス透過性能の回復及び安定化方法。

IPC (4件)：

B01D 65/00 , B01D 53/22 , C01B 3/50 , B01D 71/02 500

FI (4件)：

B01D 65/00 , B01D 53/22 , C01B 3/50 , B01D 71/02 500

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平4-029728
特開平2-265631
特開平1-262924

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