特許
J-GLOBAL ID：200903045409203417

プラズマ処理容器内部材及びその製造方法

発明者：
住母家 岩夫

住母家 岩夫 について


出願人/特許権者：
株式会社 電硝エンジニアリング

株式会社 電硝エンジニアリング について


代理人 (1件)： 中倉 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-302417
公開番号（公開出願番号）：特開2009-127079
出願日： 2007年11月22日
公開日（公表日）： 2009年06月11日
要約：
【課題】 本発明は、大気プラズマ溶射法で、気孔率が5%未満のY2O3の溶射膜を備えたプラズマ処理容器内部材と、その製造方法を提供する。【解決手段】 本発明のプラズマ処理容器内部材の製造方法は、複数組のアノード101とカソード102を溶射方向に延びる中心軸aの周囲に配置し、各アノード101とカソード102間に発生するプラズマ流を収束器110で合流させて前記中心軸上の先端に開口する1のノズル120から大気中に放射するプラズマ溶射装置100を用い、該プラズマ溶射装置100の前記中心軸a上で粉末投入パイプ115からY2O3の粉末状素材を供給する。複数のアノードとカソードにより高温のプラズマを生成し、中心軸後方からY2O3の粉末状素材を供給するため、高温で低粘性の溶融粒子となり、基材の表面に気孔率5%未満の溶射皮膜を形成することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基材の表面が、大気プラズマ溶射によるY2O3溶射皮膜によって被覆され、前記Y2O3溶射皮膜の気孔率が、5%未満であることを特徴とするプラズマ処理容器内部材。
IPC (4件)：
C23C 4/10 ,  C23C 4/12 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/31
FI (4件)：
C23C4/10 ,  C23C4/12 ,  H01L21/302 101G ,  H01L21/31 C
Fターム (10件)：
4K031AA01 ,  4K031AB02 ,  4K031AB03 ,  4K031AB09 ,  4K031CB42 ,  4K031DA04 ,  4K031EA07 ,  5F004BA20 ,  5F045EH08 ,  5F045EM09
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (9件)
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