特許
J-GLOBAL ID：200903045413772434
露光方法及び装置、並びにデバイスの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-192023
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031054
出願日： 1992年06月11日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：
【要約】【目的】 露光光の照射により照明光学系の光学部品又はそのビームスプリッター等の反射率が変化してもウエハに対する露光量を正確にモニターする。【構成】 レーザー光源1とマスクRとの間でレーザー光の一部を分岐するビームスプリッター13と、ビームスプリッター13により分岐されたレーザー光を受光するインテグレータセンサ29と、ステージ19上でウエハWの近傍に受光面を有し照明光学系14〜18よりそのマスクRを介して照射されるレーザー光を受光する照射量モニター20と、インテグレータセンサ29と照射量モニター20との出力信号の比を調整する主制御系23とを有する。
請求項（抜粋）：
露光光を発生する光源と、前記露光光を集光して所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と、前記マスク上での前記露光光の照度を均一化する照度分布均一化光学系と、感光基板を載置するステージとを有し、前記露光光のもとで前記マスクのパターンを前記ステージ上の感光基板上に露光する露光装置において、前記光源と前記マスクとの間で前記露光光の一部を分岐する分岐光学系と、該分岐光学系により分岐された前記露光光を前記マスクと共役な面で受光する第1の受光手段と、前記ステージ上で前記感光基板の近傍に受光面を有し、前記照明光学系よりマスクを介して照射される前記露光光を受光する第2の受光手段と、前記第1の受光手段の出力信号と前記第2の受光手段の出力信号との比を求め、該比の設定を行う感度制御手段と、該設定された2つの出力信号の比及び前記第1の受光手段の出力信号に基づいて前記感光基板に対する前記露光光の露光量の制御を行う露光量制御手段とを有する事を特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 516 D
, G03F 7/20 521
