特許

J-GLOBAL ID：200903045423971818

黴の発生が抑制された光学機器

発明者： 田中 彰 ,  篠原 清晃
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-315454
公開番号（公開出願番号）：特開平7-168001
出願日： 1993年12月15日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：

【要約】【目的】 防黴効果が持続し、黴の発生が効率良く抑制された光学機器を提供することを目的とする。【構成】 光学機器内部に、黴を光分解することが可能な半導体光触媒を配置することにより、有機物である黴を酸化分解する。

請求項（抜粋）：

光学機器内部に、黴を光分解することが可能な半導体光触媒を配置したことを特徴とする、黴の発生が抑制された光学機器。

IPC (6件)：

G02B 1/10 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/20 ,  B01J 35/02 ,  G02B 7/02 ,  G02B 27/00

FI (2件)：

G02B 1/10 Z ,  G02B 27/00 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-251241
  
• 光触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-285421   出願人：富士チタン工業株式会社
• 特開平2-251241