ガラス基板加熱方法及びその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-072907
公開番号（公開出願番号）：特開平6-260422
出願日： 1993年03月08日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：

【要約】【目的】半導体製造装置のガラス基板に於いて、均一な加熱温度分布を得、加熱時の基板の反りを防止し、更にパーティクルの発生を抑止する。【構成】ガラス基板2に遠赤外線を吸収させ加熱し、非接触加熱を可能として均一加熱を促進し、加熱時の基板の反りを防止し、而もパーティクルの発生を抑止する。

請求項（抜粋）：