特許

J-GLOBAL ID：200903045452988657

投影露光装置

発明者： 鳥越 真 ,  鈴木 章義
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-136886
公開番号（公開出願番号）：特開平6-326000
出願日： 1993年05月14日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：

【要約】【目的】 投影光学系の球面収差を制御し、高精度な投影パターン像が得られる半導体素子製造用の投影露光装置を得ること。【構成】 照明光学系からの光束で照明された第1物体面上のパターンを投影光学系を介して第2物体面上に投影する際、球面収差計測手段により該投影光学系の球面収差を計測し、該球面収差計測手段からの信号を利用して制御手段により、該投影光学系の一部の光学部材を駆動させて該投影光学系の球面収差を制御していること。

請求項（抜粋）：

照明光学系からの光束で照明された第1物体面上のパターンを投影光学系を介して第2物体面上に投影露光する際、球面収差計測手段により該投影光学系の球面収差を計測し、該球面収差計測手段からの信号を利用して制御手段により該投影光学系の球面収差を所定値に制御していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G02B 13/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-194930   出願人：株式会社ニコン
• 特開平2-278811
  
• 特開平2-166719
  
• 特開昭60-214335