特許

J-GLOBAL ID：200903045463497477

ポジ型電子線又はX線レジスト組成物

発明者： 上西 一也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-357804
公開番号（公開出願番号）：特開2002-162733
出願日： 2000年11月24日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：

【要約】【課題】 感度、解像力に優れ、矩形状の優れたパターンプロファイルを有し、しかもPCD、PEDの安定性、更には、現像欠陥、塗布性(面内均一性)、溶剤溶解性に優れた特性を有するポジ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。【解決手段】放射線の照射により酸を発生する化合物、カチオン重合性の機能を有する化合物、溶剤(A)群から選択される1種と、溶剤(B)群と溶剤(C)群から選択される1種を含有する混合溶剤A群:鎖状ケトンB群:乳酸アルキル、アルコキシプロピオン酸アルキル、酢酸エステル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルC群:γ-ブチロラクトン、エチレンカーボネート及びプロピレンカーボネートを含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)放射線の照射により酸を発生する化合物、(b)カチオン重合性の機能を有する化合物、及び(c)下記溶剤(A)群から選択される少なくとも1種と下記溶剤(B)群から選択される少なくとも1種を含有する混合溶剤、または下記溶剤(A)群から選択される少なくとも1種と下記溶剤(C)群から選択される少なくとも1種を含有する混合溶剤A群:鎖状ケトンB群:乳酸アルキル、アルコキシプロピオン酸アルキル、酢酸エステル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテルC群:γ-ブチロラクトン、エチレンカーボネート及びプロピレンカーボネートを含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 Z ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (16件)：

2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BC17 ,  2H025BC23 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17