特許
J-GLOBAL ID：200903045468302020
薄膜の厚さ測定方法および測定装置ならびに光学フィルターの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伴 俊光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-170404
公開番号（公開出願番号）：特開平8-338709
出願日： 1995年06月13日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：
【要約】【目的】 被測定薄膜が着色しているものであっても、高精度に薄膜の厚さを測定する。【構成】 白色光を薄膜に照射し、前記白色光の前記薄膜による干渉光の分光強度を測定し、前記測定された分光強度に基づいて分光強度の極大値もしくは極小値を与える波長に対応した仮の干渉次数を演算し、前記薄膜の材料の分光透過特性に基づいて別途定めた補正式により前記演算された干渉次数を補正し、前記補正された干渉次数に基づいて前記薄膜の厚さを算出することを特徴とする、薄膜の厚さ測定方法、および測定装置ならびに光学フィルターの製造方法。
請求項（抜粋）：
白色光を薄膜に照射し、前記白色光の前記薄膜による干渉光の分光強度を測定し、前記測定された分光強度に基づいて分光強度の極大値もしくは極小値を与える波長に対応した仮の干渉次数を演算し、前記薄膜の材料の分光透過特性に基づいて別途定めた補正式により前記演算された干渉次数を補正し、前記補正された干渉次数に基づいて前記薄膜の厚さを算出することを特徴とする、薄膜の厚さ測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
前のページに戻る
