特許

J-GLOBAL ID：200903045484431182

ビス (ジアリールアルキル) ホスフィン類及びその製造方法

発明者： デイーター・レグナート ,  ハンス-イエルク・クライナー
出願人/特許権者： ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 江崎 光史 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-277598
公開番号（公開出願番号）：特開平7-252280
出願日： 1994年11月11日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【構成】 式【化1】[式中、Ar1 はフェニルまたはナフチル残基であり、Ar2 はフェニルまたはナフチル残基であり、R 及びR ′は互いに独立して H、アルキル、アルコキシ、アリールオキシ残基、ジアルキルアミノ残基、F 、ClまたはBrであり、m は1〜4の整数であり、n は1〜5の整数であり、そしてX はアルキレン基である]で表されるビス (ジアリールアルキル) ホスフィン類を製造する方法とこの方法から得られる新規化合物に関する。【効果】 所望のビス( ジアリールアルキル) ホスフィン類を作業安全性を損なうことなくしかも高収率で製造することができる。

請求項（抜粋）：

式【化1】[式中、Ar1 はフェニルまたはナフチル残基であり、Ar2 はフェニルまたはナフチル残基であり、R 及びR ′はそれぞれの場合に互いに独立していて、同一かまたは異なっており、H 、1〜8個の炭素原子を有するアルキル、アルコキシ、アリールオキシ残基、2〜8個の炭素原子を有するジアルキルアミノ残基、F 、ClまたはBrであり、m は1〜4の整数であり、n は1〜5の整数であり、そしてX は1〜3個の炭素原子を有するアルキレン基である]で表されるビス (ジアリールアルキル) ホスフィン類を製造する方法であって、式【化2】[式中、Ar1 、Ar2 、R 、R ′、m 、n 及びX は上記の意味を有する]で表されるビス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化物を、式【化3】[式中、R ′′は1〜6個の炭素原子を有するアルキルまたはアルキレン残基であるか、あるいは6〜10個の炭素原子を有する芳香族残基であり、そしてk は1〜3の整数である]で表される有機ジクロロシランと、総数6〜24個の炭素原子を有する第三アミンの存在下、及び所望ならば溶媒の存在下に、80〜220 °Cの温度で反応させることから成る上記方法。

IPC (2件)：

C07F 9/50 ,  C07F 9/53