特許
J-GLOBAL ID:200903045502111310
含硫黄ポリマー
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-105521
公開番号(公開出願番号):特開平7-309947
出願日: 1994年05月19日
公開日(公表日): 1995年11月28日
要約:
【要約】【目的】 高屈折率を有し、耐熱性に優れ、光学レンズ、位相差板、反射防止膜、選択透過膜等の用途に好適に利用できる含硫黄ポリマーを提供する。【構成】 一般式(I)で表されるジチオール40〜55モル%、並びに、ジビニルベンゼン10〜90モル%及び芳香族ジアクリレート90〜10モル%からなるジビニル化合物60〜45モル%からなり、重量平均分子量が10000以上である含硫黄ポリマー。式中、R1 、R2 は同一又は異なって水素、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、フェニル基、水酸基、Cl又はBrを表す。nは1〜3の整数を表す。
請求項(抜粋):
一般式(I)で表されるジチオール40〜55モル%、並びに、ジビニルベンゼン10〜90モル%及び芳香族ジアクリレート90〜10モル%からなるジビニル化合物60〜45モル%からなり、重量平均分子量が10000以上であることを特徴とする含硫黄ポリマー。【化1】式中、R1 、R2 は、同一又は異なって、水素、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、フェニル基、水酸基、Cl又はBrを表す。nは1〜3の整数を表す。
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