特許

J-GLOBAL ID：200903045514246547

フィルター基材およびその製造方法

発明者： 堀口 泰義 ,  西村 誠 ,  岩崎 かおり
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-233506
公開番号（公開出願番号）：特開平8-100371
出願日： 1994年09月28日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】プリーツ加工性にすぐれ、かつ、高性能であるフィルター基材およびその製造方法を提供する。【構成】高融点ポリマーが芯成分で、低融点ポリマーが鞘成分である芯鞘複合フィラメントで構成された不織布層(A)と、前記低融点ポリマーからなるフィラメントと高融点ポリマーからなるフィラメントとの混繊フィラメントで構成された不織布層(B)とからなる。所定の高融点ポリマーおよび低融点ポリマー押出して得られる芯鞘複合フィラメントおよび混繊フィラメントを、移動する捕集ネットに積層捕集して、前記芯鞘複合フィラメントからなる不織布層(A)と、前記低融点ポリマーフィラメントと高融点ポリマーフィラメントとの混繊フィラメントからなる不織布層(B)とからなる、少なくとも2層の積層シートを形成させた後、エンボスロールで熱圧着する。

請求項（抜粋）：

高融点ポリマーが芯成分で、低融点ポリマーが鞘成分である芯鞘複合フィラメントで構成された不織布層(A)と、低融点ポリマーからなるフィラメントと高融点ポリマーからなるフィラメントとの混繊フィラメントで構成された不織布層(B)とからなる積層体であることを特徴とするフィルター基材。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-180558