特許
J-GLOBAL ID:200903045534645626

静磁場を使用した連続鋳造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-049177
公開番号(公開出願番号):特開平5-245601
出願日: 1992年03月06日
公開日(公表日): 1993年09月24日
要約:
【要約】【目的】 連続鋳造によって得られる鋼スラブの表面および内部品質を大幅に改善すると共に高速鋳造を達成する。【構成】 ノズル先端を開放したストレート浸漬ノズル2を通して溶鋼を供給して鋼スラブを連続鋳造するに当り、ストレート浸漬ノズル2の吐出口を含む溶鋼領域に対応する鋳型長辺壁1bの背面に上段静磁場発生器3を配置し、さらに静磁場発生器3の下方に間隙部5を設けて下段静磁場発生器6を配置する。一方の長辺壁1bから他方の長辺壁1bに向かう静磁場を発生させ、ノズル2の先端から吐出する下方への溶鋼流動を制御する。【効果】 非金属介在物が下方に侵入しないので鋳片品質が向上する。
請求項(抜粋):
タンディッシュから溶鋼を、一対の短辺壁と長辺壁の組み合わせからなる連続鋳造鋳型内に、該タンディッシュとつながるノズル先端を解放したストレート浸漬ノズルを通して供給しつつ鋼スラブを連続鋳造するにあたり、ストレート浸漬ノズル吐出口を含む溶鋼領域に対応する上記鋳型長辺壁背面に上段静磁場発生器を配置し、さらに上段静磁場発生器の下方に間隙を設けて1段以上の静磁場発生器を配置して、一方の長辺壁から他方の長辺壁に向かう静磁場を常に発生させながら鋳造することを特徴とする静磁場を使用した連続鋳造方法。
IPC (4件):
B22D 11/10 ,  B22D 11/10 350 ,  B22D 11/18 ,  B22D 43/00

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