特許

J-GLOBAL ID：200903045563570414

位置検出装置

発明者： 水谷 英夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-334499
公開番号（公開出願番号）：特開平7-226357
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月22日
要約：

【要約】【目的】 高精度な位置検出のできるコンパクトな位置検出装置を提供する。【構成】 マスク(R) 上のマーク(RMa,RMb) を対物レンズ(42a,42b) を介して光学的に検出する位置検出装置は、マスクと対物レンズとの間の光路中に配置された変倍光学系(30)を有する。アライメント系(50a,50b) は、縮小されたマスクの像(r) を対物レンズを介して検出する。

請求項（抜粋）：

マスク上のパターンを投影光学系を介して被露光基板上に転写する露光装置に設けられ、前記マスク上の所定のマークを対物レンズを介して光学的に検出する位置検出装置において、前記マスクと前記対物レンズとの間の光路中には、前記マスクの縮小像を形成するための変倍光学系が設けられることを特徴とする位置検出装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03B 27/34 ,  G03B 27/53 ,  G03F 9/00

FI (2件)：

H01L 21/30 525 F ,  H01L 21/30 525 D