特許
J-GLOBAL ID：200903045565731776
連続鋳造機鋳型内の湯面レベル制御方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-096416
公開番号（公開出願番号）：特開平7-299551
出願日： 1994年05月10日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：
【要約】【目的】 オペレータによらずとも操業中、制御精度を良好に保ち得る連続鋳造機鋳型内の湯面レベル制御方法及びその実施に使用する装置を提供する。【構成】 時間T<SB>1 </SB>,T<SB>2 </SB>(T<SB>2 </SB><T<SB>1 </SB>)を予め定めておき、現在から時間T<SB></SB><SB>1 </SB>前までの時間領域における湯面レベルの変動幅に基づいて第1指標H<SB>1 </SB>を算出し、前記時間領域を時間T<SB>2 </SB>ずつに分割したそれぞれの時間領域における湯面レベルの変動幅に基づいて第2指標H<SB>2 </SB>を算出し、算出した第1指標H<SB>1 </SB>及び第2指標H<SB>2 </SB>と各々に対応する閾値THD<SB>1 </SB>,THD<SB>2 </SB>とを比較し、第2指標H<SB>2 </SB>が閾値THD<SB>2 </SB>より大きい場合は制御ゲインを小さくし、第2指標H<SB>2 </SB>が閾値THD<SB>2 </SB>より小さく、第1指標H<SB>1 </SB>が閾値THD<SB>1 </SB>より大きい場合は制御ゲインを大きくする。
請求項（抜粋）：
鋳型内の湯面レベルを検出し、その検出値に基づいて求めた制御ゲインを用いて連続鋳造機鋳型内の湯面レベルを制御する方法において、検出した湯面レベルの変動に基づいて、所定の時間T2 より短い周期の変動幅が所定値以上ある場合は前記制御ゲインを小さくし、時間T1 (T1 >T2 )から時間T2 間の周期の変動幅が所定値以上ある場合は前記制御ゲインを大きくすることを特徴とする連続鋳造機鋳型内の湯面レベル制御方法。
IPC (2件)：
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