特許

J-GLOBAL ID：200903045575613348

硬質炭素膜被覆部材の製造方法

発明者： 鈴木 瑞明 ,  岸 松雄 ,  高橋 幸嗣 ,  恒吉 潤
出願人/特許権者： セイコー電子工業株式会社
代理人 (1件)： 林 敬之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-012953
公開番号（公開出願番号）：特開平6-220637
出願日： 1993年01月28日
公開日（公表日）： 1994年08月09日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 硬質炭素膜被覆部材における硬質炭素膜の硬度、密着性を向上し、寿命が長く良好な切削性を有する切削工具等を製造する。【構成】 電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD法より基材表面に中間層として窒化アルミニウム層、窒化ケイ素層、または炭化ケイ素層のいずれかを形成した後、連続して、電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD、またはスパッタリングにより硬質炭素膜を形成し、硬質炭素膜の硬度、密着性を向上させる。

請求項（抜粋）：

基材表面に窒化ケイ素から成る中間層と該中間層表面に硬質炭素膜を形成した硬質炭素膜被覆部材の製造方法において、真空排気装置を備えた真空容器内に被覆基材を設置すると共に、材料ガスとしてシランガスと窒素ガスを用いて電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD法により基材表面に中間層を形成した後、前記真空容器を排気し、前記基材を真空容器から大気中に取り出すことなく、前記真空容器内に材料ガスとしてメタンガスと水素ガスを導入し、電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD法により前記基材に形成された中間層表面に硬質炭素膜を形成することを特徴とする硬質炭素膜被覆部材の製造方法。

IPC (5件)：

C23C 16/22 ,  B23P 15/28 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/34 ,  C23C 28/04