特許
J-GLOBAL ID：200903045591620400

Ni基耐熱合金への耐熱セラミックス薄膜の被覆層の形成方法

発明者：
石山 新太郎

石山 新太郎 について


出願人/特許権者：
日本原子力研究所

日本原子力研究所 について


代理人 (6件)： 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  桜井 周矩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-154194
公開番号（公開出願番号）：特開2004-353057
出願日： 2003年05月30日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：
【課題】分子、原子状態の核分裂生成粉物(FP)の吸着や拡散の高温における防止策はなかった。そのため、これらの機器の保守点検時には、作業員のFPによる被曝が問題となっていた。200°C以下の場合には、紙やチフロン製のフィルターによりFPの除去が現行技術で行われている。【解決手段】Ni基耐熱合金材料表面に形成された耐熱セラミック被覆膜に核分裂により生じた放射性核種(FP)をプレートアウト(凝着・付着)することにより、FPと金属材料との化学反応をふせぐとともにFPの拡散を防ぐ。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
800°C以上の高温において、核分裂により生じた放射性核種がNi基耐熱合金製の構造体表面へ凝着・付着するのを防止する耐熱セラミックス薄膜の被覆層の形成方法。
IPC (4件)：
C23C14/08 ,  C22C19/03 ,  G21D1/00 ,  G21F9/00
FI (5件)：
C23C14/08 A ,  C23C14/08 F ,  C22C19/03 G ,  G21F9/00 A ,  G21D1/00 Y
Fターム (14件)：
4K029AA02 ,  4K029AA24 ,  4K029BA43 ,  4K029BA44 ,  4K029BC10 ,  4K029BD00 ,  4K029CA03 ,  4K029DB21 ,  4K044AA06 ,  4K044BA12 ,  4K044BA13 ,  4K044BB01 ,  4K044BC02 ,  4K044CA13
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 特開昭55-158264
  • 特開昭63-062868
引用文献：
審査官引用 (1件)

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