特許
J-GLOBAL ID:200903045593319694

ゴム組成物及びフッ素ゴム架橋体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丸山 英一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-370422
公開番号(公開出願番号):特開2007-169511
出願日: 2005年12月22日
公開日(公表日): 2007年07月05日
要約:
【課題】フッ素ゴム表面を低摩擦係数化できると共に、低温特性を実現できるゴム組成物及びフッ素ゴム架橋体の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明に係るゴム組成物は、低温タイプの三元系フッ素ポリマーからなり過酸化物加硫可能なフッ素ゴムと、第4級ホスホニウム塩からなる架橋促進剤と、過酸化物系架橋剤とを含有し、前記第4級ホスホニウム塩をフッ素ポリマー100重量部当り0.5〜15重量部含有することを特徴とし、また本発明に係るフッ素ゴム架橋体の製造方法は、低温タイプの三元系フッ素ポリマーからなり過酸化物加硫可能なフッ素ゴムと、第4級ホスホニウム塩からなる架橋促進剤と、過酸化物系架橋剤とを含有し、前記第4級ホスホニウム塩をフッ素ポリマー100重量部当り0.5〜15重量部含有するゴム組成物を、200°C〜300°Cの温度範囲で熱処理することを特徴とする。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
低温タイプの三元系フッ素ポリマーからなり過酸化物加硫可能なフッ素ゴムと、第4級ホスホニウム塩からなる架橋促進剤と、過酸化物系架橋剤とを含有し、 前記第4級ホスホニウム塩をフッ素ポリマー100重量部当り0.5〜15重量部含有することを特徴とするゴム組成物。
IPC (3件):
C08L 27/12 ,  C08K 5/50 ,  C08K 5/14
FI (3件):
C08L27/12 ,  C08K5/50 ,  C08K5/14
Fターム (13件):
4J002BD141 ,  4J002BD151 ,  4J002BD161 ,  4J002BE041 ,  4J002EK017 ,  4J002EK037 ,  4J002EK047 ,  4J002EK057 ,  4J002EK087 ,  4J002EW176 ,  4J002FD147 ,  4J002FD156 ,  4J002GJ02
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 国際公開第2004/094479号パンフレット
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る