特許
J-GLOBAL ID：200903045601208600
回路パターンの欠陥検査方法及び欠陥検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-254073
公開番号（公開出願番号）：特開平6-074995
出願日： 1992年08月27日
公開日（公表日）： 1994年03月18日
要約：
【要約】【目的】 周期性がある回路パターンの欠陥検査を短時間で行なう。【構成】 周期性を有する回路パターンの被処理データを入力し、イメージメモリに記憶する。その被処理データに基づいた欠陥検出を所定の処理領域ごとに行なう。被処理データの周期を算出し、被処理データを算出した周期倍だけずらしたデータと、被処理データとの差分データを算出する。次に、被処理データを±1〜±N画素ずらせたデータと、被処理データとの差分を各々算出して正規直交化し、周期に対する差分データの±1〜±N画素に対する正規直交化した各差分データへの相関量を算出し、±1〜±N画素に対する各差分データと各々に対応する相関量を掛け合わせた各補正データを算出し、周期に対する差分データから各補正データを引いて除去し、欠陥成分だけを抽出して欠陥の検出を行なう。
請求項（抜粋）：
XY平面上の少なくともX方向に対して周期性を有する回路パターンの所定の検査領域の欠陥を検出する回路パターンの欠陥検査方法において、少なくとも前記X方向に配列された複数個の画素によって前記検査領域内の回路パターンの特性を入力し、前記入力した回路パターンの各画素の特性をそれぞれ定量的に変換し、被処理データを作成する第一処理過程と、前記第一処理過程によって作成された被処理データを、少なくともY方向の1画素に対するX方向の各画素の並びによって構成される処理領域に分割する第二処理過程と、前記第二処理過程によって分割された前記各処理領域ごとの被処理データの周期をそれぞれ求め、前記求めた周期をそれぞれ画素数で算出する第三処理過程と、前記各処理領域ごとに、前記第一処理過程によって作成された被処理データと、前記被処理データを前記第三処理過程によって算出された周期に相当する画素数の所定の整数倍だけずらせたデータとの差分データをそれぞれ算出する第四処理過程と、前記各処理領域ごとに、前記第一処理過程によって作成された被処理データと、前記被処理データをZ画素(Zは整数)だけそれぞれの方向にずらせたデータとの差分データを、±1〜±N(Nは所定の値の自然数)についてそれぞれ算出する第五処理過程と、前記各処理領域ごとに、前記第四処理過程によって算出された周期に対する差分データの、前記第五処理過程によって算出された±1〜±Nについての各差分データへの相関量を、±1〜±Nについてそれぞれ算出する第六処理過程と、前記各処理領域ごとに、前記第五処理過程によって算出された±1〜±Nについての各差分データに、前記第六処理過程によって算出された±1〜±Nについての各相関量をそれぞれ掛け合わせた各補正データを、前記第四処理過程によって算出された周期に対する差分データからそれぞれ引いて除去する第七処理過程と、前記第七処理過程の結果に基づいて、前記回路パターンの欠陥を検出する第八処理過程と、を備えたことを特徴とする回路パターンの欠陥検査方法。
IPC (4件)：
G01R 31/02
, G01N 21/88
, G06F 15/62 405
, G06F 15/70 460
