特許

J-GLOBAL ID：200903045605673782

創傷洗浄装置圧力監視および制御システム

発明者： ヴォーゲル,リチャード,シー.
出願人/特許権者： イノベーティブ セラピーズ,インコーポレイテッド
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-526038
公開番号（公開出願番号）：特表2009-504246
出願日： 2006年07月25日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：

装置は、真空源に結合されるように構成された圧力ハウジングと、圧力ハウジングに封止結合されるダイアフラムと、を有する。ダイアフラムは、真空源に応じて移動するように構成される。ダイアフラムには磁石が結合される。磁石の反対側に磁気スイッチが配置され、それは、磁石が磁気スイッチから所定距離にあるときに磁石によって作動されるように構成される。磁気スイッチは、真空源を選択的に作動させるように構成される。【選択図】5A

請求項（抜粋）：

流体浸透性被覆材と、 前記流体浸透性被覆材の上に延在するように構成されたカバー膜と、 前記流体浸透性被覆材に結合された管であって、前記流体浸透性被覆材を通して吸引を施すように構成された管と、 前記カバー膜に結合された流体容器であって、流体を受容するように構成された入口ポートと、前記流体浸透性被覆材に流体的に結合された出口ポートと、を含む流体容器と、 を備える、装置。

IPC (3件)：

A61B 19/00 ,  A61L 27/00 ,  A61M 27/00

FI (3件)：

A61B19/00 502 ,  A61L27/00 C ,  A61M27/00

Fターム (8件)：

4C081AA12 ,  4C081AB19 ,  4C081CA161 ,  4C081CA231 ,  4C081DA02 ,  4C167AA39 ,  4C167GG43 ,  4C167HH08