特許

J-GLOBAL ID：200903045613767060

酸化亜鉛膜の製造装置、および酸化亜鉛膜の製造方法

発明者： 園田 雄一 ,  遠山 上 ,  宮本 祐介 ,  荒尾 浩三
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-200809
公開番号（公開出願番号）：特開2002-080998
出願日： 2001年07月02日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：

【要約】【課題】 酸化亜鉛膜の電析装置における電析浴を繰り返し使用するための新規技術を確立し、高性能かつ低コストな酸化亜鉛膜の製造装置および製造方法を提供する。【解決手段】 電析槽中に保持された電析浴中の、亜鉛からなる少なくとも一つの電極の上方、を経由して導電性長尺基板を搬送し、前記電極と前記導電性基板との間に電界を印加することによって、前記導電性長尺基板上に酸化亜鉛膜を形成する工程を有する酸化亜鉛膜の製造方法において、前記導電性基板の途中まで酸化亜鉛膜を形成する第一の工程と、前記電界の印加及び搬送を停止する第二の工程と、前記導電性基板のうち、前記第二の工程の際に前記電析浴と接触していた部分の少なくとも一部の領域と、前記電析浴とを非接触とする第三の工程と、を少なくとも有する酸化亜鉛膜の製造方法及びこの方法に好適に用いられる装置。

請求項（抜粋）：

電析浴を保持する電析槽と、該電析槽中に設けられた亜鉛からなる少なくとも一つの電極と、前記電析槽中に保持された電析浴中の前記電極の上方を経由して導電性長尺基板を搬送する搬送機構と、前記電極と前記導電性基板との間に電界を印加する電源と、を有する酸化亜鉛膜の製造装置において、前記長尺基板と前記電析浴とが接触しないようにするための手段を備えていること特徴とする酸化亜鉛膜の製造装置。

IPC (4件)：

C25D 9/10 ,  C25D 17/00 ,  C25D 21/00 ,  H01L 31/04

FI (6件)：

C25D 9/10 ,  C25D 17/00 C ,  C25D 17/00 G ,  C25D 17/00 K ,  C25D 21/00 D ,  H01L 31/04 M

Fターム (4件)：

5F051CB29 ,  5F051GA02 ,  5F051GA05 ,  5F051GA06