特許
J-GLOBAL ID：200903045622762616
ガスの混合方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江崎 光史 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-002799
公開番号（公開出願番号）：特開平8-033836
出願日： 1995年01月11日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：
【要約】【目的】 必要スペースが狭くて済むガスの混合方法およびミキサを提供する。【構成】 冷却ガスの一つ以上の流れがプロセスガスの一つ以上の流れの中に噴射され、得られた混合ガスの流れが円筒状混合室内でらせん運動を行う。この円筒状混合室は中央の分配室4と、この分配室に取付けられかつ穴10を有する多数のらせん羽根6を有する。ガス混合物の各々の流れが、羽根の穴を通って分配室に向かう半径方向の多数の部分流14と、羽根に沿って分配室に向かう接線方向の多数の部分流12に周期的に分割され、部分流が分配室で再び混ざる。
請求項（抜粋）：
プロセスガスに混ぜられる冷却ガスによってプロセスガスを冷却するための方法において、冷却ガスの一つ以上の流れがプロセスガスの一つ以上の流れの中に噴射され、得られた混合ガスの流れが円筒状混合室内でらせん運動を行い、この円筒状混合室が中央の分配室と、この分配室に取付けられかつ穴を有する多数のらせん羽根を有し、ガス混合物の各々の流れが、羽根の穴を通って分配室に向かう半径方向の多数の部分流と、羽根に沿って分配室に向かう接線方向の多数の部分流に周期的に分割され、部分流が分配室で再び混ざることを特徴とする方法。
IPC (2件)：
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