特許
J-GLOBAL ID：200903045633313104
日焼け止め化粧料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
▲高▼野 俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-112079
公開番号（公開出願番号）：特開2007-131612
出願日： 2006年04月14日
公開日（公表日）： 2007年05月31日
要約：
【課題】使用感が悪い紫外線吸収剤を日焼け止め化粧料に配合する場合において、使用感に優れた日焼け止め化粧料を提供する。【解決手段】2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、2,2’-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール]、ジメチコジエチルベンザルマロネートからなる紫外線吸収剤の一種または二種以上と、下記一般式で示されるアルキルアリール1,3-プロパンジオンシリコーン誘導体とを含有する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]-フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリル酸エチルヘキシル、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、2,2’-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール]、ジメチコジエチルベンザルマロネートからなる紫外線吸収剤の一種または二種以上と、
下記一般式(I)で示されるアルキルアリール1,3-プロパンジオンシリコーン誘導体とを含有することを特徴とする日焼け止め化粧料。
一般式(I)
IPC (5件)：
A61K 8/40
, A61Q 17/04
, A61K 8/49
, A61K 8/44
, A61K 8/89
A61K8/40
, A61Q17/04
, A61K8/49
, A61K8/44
, A61K8/89
4C083AA112
, 4C083AB102
, 4C083AB212
, 4C083AB242
, 4C083AB442
, 4C083AC102
, 4C083AC122
, 4C083AC172
, 4C083AC262
, 4C083AC302
, 4C083AC342
, 4C083AC352
, 4C083AC432
, 4C083AC482
, 4C083AC511
, 4C083AC542
, 4C083AC621
, 4C083AC622
, 4C083AC792
, 4C083AC851
, 4C083AC852
, 4C083AC912
, 4C083AD042
, 4C083AD092
, 4C083AD152
, 4C083AD161
, 4C083AD162
, 4C083AD172
, 4C083AD212
, 4C083AD262
, 4C083AD392
, 4C083AD412
, 4C083AD532
, 4C083AD642
, 4C083BB46
, 4C083BB51
, 4C083CC01
, 4C083CC02
, 4C083CC04
, 4C083CC05
, 4C083CC07
, 4C083CC19
, 4C083DD12
, 4C083DD22
, 4C083DD23
, 4C083DD27
, 4C083DD31
, 4C083DD32
, 4C083DD33
, 4C083DD38
, 4C083EE05
, 4C083EE06
, 4C083EE07
, 4C083EE11
, 4C083EE17
