特許

J-GLOBAL ID：200903045660038387

枚葉式熱処理装置

発明者： 青木 一二 ,  原岡 務
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-185831
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021799
出願日： 1998年07月01日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 シャッター室の露出部の腐食を防止する。【解決手段】 昇降可能な基板保持部2により被処理基板Wを一枚ずつ下部の炉口3から上昇搬入させて所定の熱処理を行う熱処理炉1と、この熱処理炉1の下部に設けられ、炉口3から降下搬出された熱処理後の被処理基板Wを所定の温度に冷却するために前記炉口3を熱遮蔽する開閉可能な遮熱シャッター4を有するシャッター室5とを備え、前記シャッター室5内の露出面が耐食性を有する被覆材でコーティングされている。

請求項（抜粋）：

昇降可能な基板保持部により被処理基板を一枚ずつ下部の炉口から上昇搬入させて所定の熱処理を行う熱処理炉と、この熱処理炉の下部に設けられ、炉口から降下搬出された熱処理後の被処理基板を所定の温度に冷却するために前記炉口を熱遮蔽する開閉可能な遮熱シャッターを有するシャッター室とを備え、前記シャッター室内の露出面を耐食性を有する被覆材でコーティングしてなることを特徴とする枚葉式熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/22 511 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/22 511 M ,  H01L 21/205

Fターム (15件)：

5F045AA20 ,  5F045AC15 ,  5F045AE23 ,  5F045AE25 ,  5F045DP04 ,  5F045DP19 ,  5F045EB09 ,  5F045EJ03 ,  5F045EJ04 ,  5F045EJ09 ,  5F045EJ10 ,  5F045EM10 ,  5F045EN04 ,  5F045EN05 ,  5F045HA23