特許

J-GLOBAL ID：200903045663053867

アクティブマトリクス基板およびその製造方法

発明者： 藤川 隆 ,  片岡 義晴
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 岡田 和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-264201
公開番号（公開出願番号）：特開平10-111518
出願日： 1996年10月04日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：

【要約】【課題】製造過程における画素電極間の短絡を防止できる構造でかつ画素電極の形成位置精度を高めたアクティブマトリクス基板の提供。【解決手段】絶縁基板11上に格子状に設けられる二種類の配線1,2と、両配線1,2の交点近傍にそれぞれ設けられるスイッチング素子5と、配線1,2やスイッチング素子5で凹凸となる絶縁基板11表面を平らにするよう全体を覆う平坦化用絶縁膜21と、平坦化用絶縁膜21上にマトリクス状に設けられる画素電極4とを備える構造のアクティブマトリクス基板10において、平坦化用絶縁膜21において隣り合う画素電極4それぞれの離間部分に対応する領域に、製造過程における画素電極4間の短絡を防止する凹溝23が形成されている。

請求項（抜粋）：

絶縁基板上に格子状に設けられる二種類の配線と、両配線の交点近傍にそれぞれ設けられるスイッチング素子と、配線やスイッチング素子で凹凸となる絶縁基板表面を平らにするよう全体を覆う平坦化用絶縁膜と、平坦化用絶縁膜上にマトリクス状に設けられる画素電極とを備える構造のアクティブマトリクス基板であって、前記平坦化用絶縁膜において隣り合う画素電極それぞれの離間部分に対応する領域に、製造過程における画素電極間の短絡を防止する凹溝が形成されている、ことを特徴とするアクティブマトリクス基板。