特許
J-GLOBAL ID:200903045675093449

シリカ微粒子分散液の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 金谷 宥 ,  井上 昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-047340
公開番号(公開出願番号):特開2006-232592
出願日: 2005年02月23日
公開日(公表日): 2006年09月07日
要約:
【課題】 インク吸収性に優れ、且つ、目視による光沢感が良好な写真印刷用インクジェット記録シートを製造し得るシリカ微粒子分散液を提供する。【解決手段】 (1)活性ケイ酸水溶液を加熱する方法によってシリカ微粒子分散液を生成させる工程、(2)該シリカ微粒子分散液が沈殿を生じる前もしくはゲル化する前にアルカリを添加してシリカ微粒子を安定化する工程、(3)該シリカ微粒子分散液の安定状態を保ちながら活性ケイ酸水溶液を添加してシリカ微粒子を成長させる工程、を有するシリカ微粒子分散液の製造方法において、強酸の塩を含むアルカリ金属ケイ酸塩水溶液から陽イオンを除去することによって製造された活性ケイ酸水溶液を、少なくとも前記(1)の工程で用いることを特徴とするシリカ微粒子分散液の製造方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
(1)活性ケイ酸水溶液を加熱する方法によってシリカ微粒子分散液を生成させる工程、(2)該シリカ微粒子分散液が沈殿を生じる前もしくはゲル化する前にアルカリを添加してシリカ微粒子を安定化する工程、(3)該シリカ微粒子分散液の安定状態を保ちながら活性ケイ酸水溶液を添加してシリカ微粒子を成長させる工程、を有するシリカ微粒子分散液の製造方法において、強酸の塩を含むアルカリ金属ケイ酸塩水溶液から陽イオンを除去することによって製造された活性ケイ酸水溶液を、少なくとも前記(1)の工程で用いることを特徴とするシリカ微粒子分散液の製造方法。
IPC (1件):
C01B 33/141
FI (1件):
C01B33/141
Fターム (23件):
4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072CC13 ,  4G072DD04 ,  4G072DD05 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072EE01 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH17 ,  4G072HH21 ,  4G072JJ13 ,  4G072JJ14 ,  4G072JJ15 ,  4G072JJ16 ,  4G072TT01 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072UU30
引用特許:
出願人引用 (5件)
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