熱処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-129405
公開番号（公開出願番号）：特開2001-313269
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】基板からの放射光強度を正確に検出して高い精度にて基板温度を計測することができる熱処理装置を提供する。【解決手段】光源から出射された光は基板Wの上方より照射され、基板Wを加熱する。光源から基板Wよりも下方位置に直接に到達しようとする光は基板サポートリング40および平板遮光リング50によって全て遮光される。基板サポートリング40と平板遮光リング50との隙間から入射した光は円筒遮光リング60によって遮光される。さらに、基板サポートリング40と円筒遮光リング60との間には凹凸を組み合わせたラビリンス機構が形成されており、それらの間から入射しようとする光も完全に遮光される。これによって、放射温度計37が基板Wからの放射光のみを受光することとなり、基板Wからの放射光強度を正確に検出して高い精度にて基板温度を計測することができる。

請求項（抜粋）：

チャンバ内に収容した基板に光を照射して熱処理を行う熱処理装置であって、前記チャンバよりも上方に設けられ、基板の上方から光を照射する光源と、前記チャンバ内であって基板よりも下方に設けられ、基板からの放射光の強度を計測することによって当該基板の温度を計測する放射温度計と、基板を前記チャンバ内の所定位置に保持するとともに、基板の外周部分の外側を遮光する基板保持手段と、前記チャンバ内であって前記基板保持手段よりも上方に設けられ、前記基板保持手段と前記チャンバの炉壁との間を遮光する第1遮光部材と、前記基板保持手段の下方であって前記放射温度計の周囲を覆うように設けられ、前記基板保持手段と前記第1遮光部材との隙間より入射する迷光を遮光する第2遮光部材と、を備えることを特徴とする熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/26 , H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/205 , H01L 21/26 T

Fターム (7件)：

5F045DP28 , 5F045EB02 , 5F045EB03 , 5F045EK12 , 5F045EM02 , 5F045EM10 , 5F045GB05

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