特許
J-GLOBAL ID：200903045699875847
薄膜磁気ヘッドとその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-095688
公開番号（公開出願番号）：特開平6-309625
出願日： 1993年04月22日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：
【要約】【目的】 磁気ディスクなどの磁気記録媒体に垂直記録する接触型の薄膜磁気ヘッドとその製造方法に関し、磁気記録媒体との接触摺動面の耐磨耗性を向上することを目的とする。【構成】 主磁極先端部5aの回りは、アモルファスカーボンなどの耐磨耗性絶縁層6でなる、磁気記録媒体との接触摺動面を備えて構成し、その耐磨耗性絶縁層はプラズマCVD法による成膜工程で形成するように構成する。
請求項（抜粋）：
磁性体基板でなるリターンヨーク(1) と、該リターンヨーク(1) 上に非磁性絶縁膜(2) と共に成膜した薄膜積層コイル(4) 及び該コイル(4)の中心を貫通し前記リターンヨーク(1) に磁気結合した主磁極(5) とからなる垂直磁気記録型薄膜磁気ヘッドにおいて、前記主磁極先端部(5a)の回りに耐磨耗性絶縁層(6) でなる、磁気記録媒体との接触摺動面を備えてなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
IPC (3件)：
G11B 5/31
, G11B 5/255
, G11B 5/39
