特許
J-GLOBAL ID：200903045714276335
耐光性の優れたポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-048881
公開番号（公開出願番号）：特開平7-258514
出願日： 1994年03月18日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：
【要約】【構成】 ?@ゴム変性スチレン系樹脂、?Aポリフェニレンエ-テル、?Bヒドロキシアリ-ルベンゾトリアゾ-ル系紫外線吸収剤〔(C-1)成分〕、及び/またはトリアジン骨格含有ヒンダ-ドピペリジン系光安定剤〔(C-2)成分〕からなる耐光性改良剤、及び?C酸化防止剤、ハロゲン捕捉剤、遮光剤、金属不活性剤、消光剤、分散剤から選ばれる一種以上の耐光性改良助剤を含有する樹脂組成物であって、該(C-1)成分のヒドロキシル基のオルト位、及び該(C-2)成分のピペリジン骨格の窒素原子が炭素数1〜5のアルキル基または炭素数6〜11のアリ-ル基で少なくとも一つ置換されていることを特徴とするポリフェニレンエ-テル系樹脂組成物。【効果】 本組成物は、高度な耐光性を有し、かつ難燃性、耐熱性、耐衝撃性、及び流動性が優れているため、家電、OA機器部品等の用途分野に好適である。
請求項（抜粋）：
?@ゴム変性スチレン系樹脂〔(A)成分〕、?Aポリフェニレンエーテル〔(B)成分〕、?Bヒドロキシアリールベンゾトリアゾ-ル系紫外線吸収剤〔(C-1)成分〕、及び/またはトリアジン骨格含有ヒンダ-ドピペリジン系光安定剤〔(C-2)成分〕からなる耐光性改良剤、及び?C酸化防止剤、ハロゲン捕捉剤、遮光剤、金属不活性剤、消光剤、分散剤から選ばれる一種以上の耐光性改良助剤〔(D)成分〕を含有する樹脂組成物であって、該(C-1)成分のヒドロキシル基のオルト位、及び該(C-2)成分のピペリジン骨格の窒素原子が炭素数1〜5のアルキル基または炭素数6〜11のアリール基で少なくとも一つ置換されていることを特徴とするポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。
IPC (5件)：
C08L 55/02 LMF
, C08K 5/13
, C08K 5/3475
, C08K 5/49
, C08L 71/12 LQP
