特許

J-GLOBAL ID：200903045728347260

面板の欠陥検査装置

発明者： 吉岡 史高
出願人/特許権者： 日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 梶山 佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-099273
公開番号（公開出願番号）：特開2002-296201
出願日： 2001年03月30日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】欠陥検査の効率を低下させることなく、検出された異物を効率よく観察することができる面板の欠陥検査装置を提供することにある。【解決手段】この発明は、所定の照射角で面板に投光された光からの反射光あるいは散乱光を受けて欠陥検査部において検出された面板上の異物の検出位置のデータを記憶するメモリと、面板のたわみ量を測定する測定器と、顕微鏡観測系とを備え、メモリから検出位置のデータを読出して測定器をその検出位置に位置決めしてその位置のたわみ量を測定し、得られたたわみ量と所定の照射角とに基づいて異物の検出位置を補正して、補正した位置に顕微鏡観測系を位置決めするものである。

請求項（抜粋）：

異物観測系を有する面板の欠陥検査装置において、所定の照射角で面板に投光された光からの反射光あるいは散乱光を受けて欠陥検査部において検出された前記面板上の異物の検出位置のデータを記憶するメモリと、前記面板のたわみ量を測定する測定器と、顕微鏡観測系とを備え、前記メモリから前記検出位置のデータを読出して前記測定器をその検出位置に位置決めしてその位置のたわみ量を測定し、得られたたわみ量と前記所定の照射角とに基づいて前記異物の検出位置を補正して、補正した位置に前記顕微鏡観測系を位置決めすることを特徴とする面板の欠陥検査装置。

IPC (6件)：

G01N 21/958 ,  G01B 11/16 ,  G01B 11/30 ,  G01M 11/00 ,  G02B 21/26 ,  G02F 1/13 101

FI (6件)：

G01N 21/958 ,  G01B 11/16 Z ,  G01B 11/30 A ,  G01M 11/00 T ,  G02B 21/26 ,  G02F 1/13 101

Fターム (37件)：

2F065AA49 ,  2F065AA65 ,  2F065CC01 ,  2F065FF12 ,  2F065FF32 ,  2F065GG04 ,  2F065HH12 ,  2F065HH14 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ23 ,  2F065TT02 ,  2F065UU01 ,  2F065UU02 ,  2G051AA42 ,  2G051AA73 ,  2G051AA84 ,  2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051BA10 ,  2G051CA11 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EC03 ,  2G086EE10 ,  2H052AD19 ,  2H052AF02 ,  2H088FA11 ,  2H088HA01 ,  2H088HA06 ,  2H088HA08 ,  2H088MA20