特許

J-GLOBAL ID：200903045730318960

RTPチャンバ内への新規なガス導入手段

発明者： デイヴィッド エス. バランス ,  ベンジャミン バイアマン ,  ジェイムズ ヴイ. タイツ
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-231662
公開番号（公開出願番号）：特開平10-121252
出願日： 1997年07月24日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：

【要約】【課題】 膜の均一性を向上したシャワーヘッドを提供する。【解決手段】 熱処理チャンバ内において、熱処理チャンバ内の基板を加熱する放射線を発する高強度の源を含むランプヘッドと共に用いるシャワーヘッドであって、ランプヘッドに隣接している、シャワーヘッドの一方の側に設けられている上窓と、処理中、基板に隣接している、シャワーヘッドの一方の側に設けられている底窓と、上窓及び底窓の間の空間内に導入されるガスが通るガス供給用の入口とを備え、上窓及び底窓がランプヘッド内の源からの放射線を透過する性質を有しており、底窓が、上窓と底窓の間の空間からチャンバ内に注入されるガスが通る複数のガス配分穴を含んでいるシャワーヘッド。

請求項（抜粋）：

熱処理チャンバ内において、前記熱処理チャンバ内で基板を加熱する放射線を発する高強度の源を含むランプヘッドと共に用いるシャワーヘッドであって、前記ランプヘッドに隣接している、前記シャワーヘッドの一方の側に設けられている上窓と、処理中、前記基板に隣接している、前記シャワーヘッドの一方の側に設けられている底窓と、前記上窓と前記底窓との間の空間内に導入されるガスが通るガス供給用の入口と、を備え、前記上窓及び前記底窓が前記ランプヘッド内の前記源からの前記放射線を透過する性質を有しており、前記底窓が、前記上窓と前記底窓との間の空間から前記チャンバ内に注入されるガスが通る複数のガス配分穴を含んでいるシャワーヘッド。

IPC (6件)：

C23C 16/44 ,  B01J 4/00 102 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

C23C 16/44 D ,  B01J 4/00 102 ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 S ,  H01L 21/302 B