特許
J-GLOBAL ID:200903045736200030

複屈折特性測定装置の校正方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松永 宣行
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-552066
公開番号(公開出願番号):特表2003-519789
出願日: 2001年01月05日
公開日(公表日): 2003年06月24日
要約:
【要約】【課題】 光学材料の低レベル複屈折特性を精密に測定する実用的な方法および装置を提供すること。【解決手段】動的自己校正処理は、光学材料の低レベル複屈折特性(リターダンス及び速い軸線の方向)を正確に測定するために装置を周期的に校正する。複屈折特性測定における変動は、例えば、試料の複屈折特性が測定される環境条件(例えば、気圧や温度)における変動によって生じるようにすることができる。一例において、動的自己校正処理は、種々の所定の基準の変動を補償するために、種々の所定の周波数で本装置を繰り返して校正する。
請求項(抜粋):
試料の複屈折特性を測定する複屈折特性測定装置を校正する方法であって、 複屈折特性測定を開始する前に前記複屈折特性測定装置の初期校正を実行するステップと、 前記試料の測定を開始した後に第1の時間において第1の周波数で前記複屈折特性測定装置を周期的に再校正するステップと、 前記第1の時間の後に前記第1の周波数とは異なる第2の周波数で前記複屈折特性測定装置を周期的に再校正するステップとを含む、複屈折特性測定装置の校正方法。
IPC (4件):
G01N 21/23 ,  G01J 4/04 ,  G01M 11/02 ,  G01N 21/27
FI (4件):
G01N 21/23 ,  G01J 4/04 Z ,  G01M 11/02 B ,  G01N 21/27 F
Fターム (21件):
2G059AA02 ,  2G059BB08 ,  2G059DD13 ,  2G059EE01 ,  2G059EE05 ,  2G059GG01 ,  2G059GG06 ,  2G059HH01 ,  2G059HH02 ,  2G059HH03 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ18 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK03 ,  2G059MM01 ,  2G059MM14 ,  2G059NN02 ,  2G059NN04 ,  2G059PP04 ,  2G086HH07

前のページに戻る