特許

J-GLOBAL ID：200903045753731627

カラーフィルタの製造方法

発明者： 円道 博毅
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-252636
公開番号（公開出願番号）：特開平9-096712
出願日： 1995年09月29日
公開日（公表日）： 1997年04月08日
要約：

【要約】【課題】 いずれの色の着色レジスト層においても高精度にアライメントマークを検出でき、これにより高精度にアライメントされたカラーフィルタを得る。【解決手段】 基板1に形成されたアライメントマーク2の直上位置に、所定波長の光(アライメント光)5に対して透光性を有する透明層3を形成し、次いで透明層3を覆うようにして基板1上に着色されたレジスト液を塗布し、透明層3上の厚さが他の箇所の厚さより薄くなるようにしてレジスト液からなる着色レジスト層4を形成する。続いて基板1へ向けてアライメント光5を照射してアライメントマーク2を検出し、この検出結果に基づき基板1に対してマスクを位置合わせする。そして着色レジスト層4を上記マスクを用いて露光し、その後現像して着色レジスト層4を所定のフィルタ6のパターンに形成する。

請求項（抜粋）：

基板に形成されたアライメントマークの直上位置に、所定波長の光に対して透光性を有する透明層を形成する工程と、前記透明層を覆うようにして前記基板上に着色されたレジスト液を塗布し、前記透明層上の厚さが他の箇所の厚さより薄くなるようにして前記レジスト液からなる着色レジスト層を形成する工程と、前記基板へ向けて前記所定波長の光を照射して前記アライメントマークを検出し、該検出結果に基づき前記基板に対してマスクを位置合わせする工程と、前記着色レジスト層を前記マスクを用いて露光し、その後現像して前記着色レジスト層を所定のパターンに形成する工程とを有していることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  H01L 27/14

FI (3件)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  H01L 27/14 D