特許

J-GLOBAL ID：200903045757734965

電子線励起レーザ、電子線励起レーザの製造方法および電子線励起レーザの駆動方法

発明者： 西谷 輝 ,  任田 隆夫 ,  岡嶋 道生
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-027082
公開番号（公開出願番号）：特開平8-222786
出願日： 1995年02月15日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：

【要約】【目的】 入射エネルギーの利用効率を高く保ちつつも、高い光学反射率を得て、結果的にはレーザ発振のしきい値の高い電子線励起レーザを提供する。【構成】 活性層2と、活性層2を挟むように形成された光学反射層1及び3とを有し、活性層2の側面から電子線5を活性層2に入射して活性層2に垂直な方向へレーザ光を出射することを特徴としており、さらには光学反射層1または3の少なくとも一方が複数の微小凹面鏡部または複数の微小フレネル型反射鏡部を有し、微小凹面鏡部、微小フレネル反射鏡部またはカマボコ型反射鏡部の焦点距離が活性層2の厚さ以上であることを特徴とする構成となっている。

請求項（抜粋）：

活性層と、前記活性層を挟むように形成された光学反射層とを有し、前記活性層の側面から電子線を前記活性層に入射して前記活性層に垂直な方向へレーザ光を出射することを特徴とする電子線励起レーザ。

IPC (5件)：

H01S 3/0959 ,  H01S 3/085 ,  H01S 3/103 ,  H01S 3/18 ,  H04N 9/31

FI (5件)：

H01S 3/09 C ,  H01S 3/103 ,  H01S 3/18 ,  H04N 9/31 A ,  H01S 3/08 S